标签：EUV

2025年4月29日，据南华早报报道称，国内研究团队成功构建一个以国际竞争参数运行的极紫外 (EUV) 光源平台，突破了国产先进芯片的障碍。该团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所，由曾任荷兰ASML公司光源技术负责人的林楠领导，这项成果...

崔 欢欢2025-04-29先进存力

英特尔正准备在D1X 工厂加大对7nm EUV光刻工艺的研发，这座工厂位于美国俄勒冈州，晶圆厂扩建通常需要数十亿美元，而EUV光刻的大规模采用预计会增加额外成本。 英特尔目前正在努力完善一种称为极紫外光刻（EUV）的新制造工艺，这将使微芯片...

张 妮娜2019-01-24业界动态