标签：光刻

张 妮娜 发布于 2019-01-24

英特尔正准备在D1X 工厂加大对7nm EUV光刻工艺的研发，这座工厂位于美国俄勒冈州，晶圆厂扩建通常需要数十亿美元，而EUV光刻的大规模采用预计会增加额外成本。 英特尔目前正在努力完善一种称为极紫外光刻（EUV）的新制造工艺，这将使微芯片能够在宽度小于0.1微米的电路线上进行蚀...

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