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投资数十亿美元,英特尔要用EUV造7nm芯片-DOIT
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投资数十亿美元,英特尔要用EUV造7nm芯片

张 妮娜

英特尔正准备在D1X 工厂加大对7nm EUV光刻工艺的研发,这座工厂位于美国俄勒冈州,晶圆厂扩建通常需要数十亿美元,而EUV光刻的大规模采用预计会增加额外成本。 英特尔目前正在努力完善一种称为极紫外光刻(EUV)的新制造工艺,这将使微芯片...