DOITAPP
DOIT数据智能产业媒体与服务平台
立即打开
DOITAPP
DOIT数据智能产业媒体与服务平台
立即打开

中芯国际与Virage Logic合作拓展65nm工艺

网易科技讯 5月24日消息,中芯国际和知名IP供应商Virage Logic今日共同宣布将拓展双方的伙伴关系至6纳米的低漏电工艺。这是Virage Logic与代工厂业务拓展战略的一部分,也让中芯国际可以为客户提供完整的IP解决方案。


从2007年起,Virage Logic就通过和包括中芯国际在内的中国企业合作进入中国市场。这次合作的延伸也是双方的合作的拓展。


根据协议条款,系统级芯片(SoC)设计人员将能够使用 Virage Logic 开发的,基于中芯国际65纳米低漏电工艺的 SiWare(TM) 存储器编译器,SiWare(TM) 逻辑库,SiPro(TM) MIPI 硅知识产权 (IP) 和 Intelli(TM) DDR IP。

中芯国际资深副总裁兼首席商务官季克非表示,“目前我们的一些客户已经开始利用中芯国际的65纳米低漏电工艺及 Virage Logic相关 IP 进行芯片项目的开发,我们和Virage Logic的进一步合作有益于我们开发全球半导体市场。”


据了解,Virage Logic的SiWare(TM) 存储器和 SiWare(TM) 逻辑产品将在2010年第三季度上市,而 Virage Logic 的 SiPro(TM) MIPI 和 Intelli(TM) DDR 接口 IP 将在2010年第三季度初上市。(王锦)

未经允许不得转载:DOIT » 中芯国际与Virage Logic合作拓展65nm工艺