使用大面积分析提升半导体制造的良率
谢 世诚 发布于 2024-03-04
面积分析技术可以预防、探测和修复热点，从而将系统性、随机性和参数缺陷数量降至最低，并最终提高良率 通过虚拟工艺开发工具加速半导体工艺热点的识别 这些技术可以节约芯片制造的成本、提升良率 设计规则检查 (DRC) 技术用于芯片设计，可确保以较高的良率制造出所需器件。设计规则通常根据...
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谢 世诚 发布于 2024-03-04
面积分析技术可以预防、探测和修复热点，从而将系统性、随机性和参数缺陷数量降至最低，并最终提高良率 通过虚拟工艺开发工具加速半导体工艺热点的识别 这些技术可以节约芯片制造的成本、提升良率 设计规则检查 (DRC) 技术用于芯片设计，可确保以较高的良率制造出所需器件。设计规则通常根据...