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标签:硅光刻工艺

业界

【0608今日热点】国产电子级多晶硅量产,打破垄断;我国光刻工艺取得重要进展

张 妮娜 发布于 2018-06-08

中国造电子级多晶硅打破垄断 纯度要求达到99.999999999%的电子级多晶硅终于量产。记者6日从江苏鑫华半导体材料科技有限公司获悉,经过一系列严格验证、检测,近日一批集成电路用高纯度硅料出口韩国,同时也向国内部分晶圆加工厂批量供货。这标志着我国半导体集成电路用硅料已经达到国际...