三星SSD参展“CES2015”并获创新奖

任新勃 发表于:14年11月19日 10:26 [原创] DOIT.com.cn

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[导读]全球最大规模的消费电子展“CES 2015”将于2015年1月6日-9日美国举行。三星电子将在举办“CES 2015”的美国拉斯维加斯会议中心设置大型展位,展示荣获CES创新奖的产品及在世界消费电子行业领先的其他产品与技术。

DOSTOR北京报道:全球最大规模的消费电子展“CES 2015”将于2015年1月6日-9日美国举行。在展会揭幕前夕,来自国际知名品牌,三星电子的多款产品荣获了本次展会的创新大奖;这其中就包括,世界最大容量,新一代4GB超高速移动DRAM(LPDDR4),以及大幅提升使用便利性的1TB携带式SSD T1,另外还有保证最佳性能与使用周期的基于第二代全新32层3D V-NAND技术的850 PRO SSD等多款半导体产品荣获“CES 2015创新奖” ,均创下历史记录。其中,三星850PRO固态硬盘(SSD)获得该奖项可谓实至名归,全新的3D-V NAND技术的应用,使得该产品成为同行业中的领军产品。


“CES创新奖”由CEA于1976年设立。该奖由美国工业设计师协会(IDSA)和CEA专家联合授予。在此之后,三星电子将在举办“CES 2015”的美国拉斯维加斯会议中心设置大型展位,展示荣获CES创新奖的产品及在世界消费电子行业领先的其他产品与技术。

此次荣获“CES 2015创新奖”的三星850PRO固态硬盘产品,其采用的全新32层3D V- NAND技术不仅使得该产品拥有极高的读写速度,更能够为该系列产品提供更加持久的质量保证。

此前应用在SSD产品中的闪存芯片,所采用的2D平面型NAND技术是众多SSD厂商所使用的,该技术最大的瓶颈就在于,临近存储单元的堆放密度极限,如何在同等面积下容纳更多的存储单元成为了SSD升级面临的最大问题。由三星自主开发的32层堆叠,3D V-NAND技术的出现,完美的解决了这个问题;该技术采用不同于传统NAND闪存的排列方式,通过改进型的Charge Trap Flash 技术,在一个3D的空间内垂直互连各个层面的存储单元,使得在同样的平面内获得更多的存储空间。这样的设计,我们可以通俗的理解成,在单位空间内,晶体管的容量是以立体形式堆叠出现的,就好比在一块土地上盖房子,如果是采用平房结构,那么就会降低土地的利用率,要是采用楼房的形式,就会大大提升单位面积的利用率。

而且,三星全新的32层 3D V-NAND技术,可以垂直堆叠更多个存储单元,从而提高密度,降低碳足迹,并且还能可提供两倍于传统20nm平面NAND闪存的密度和写入速度,使得该产品最快读写速度均在500M每秒以上。而且还使得32层3D V-NAND闪存的使用寿命,较之SLC闪存延长至两倍以上,全新的三星3D V-NAND技术使得全新的SSD产品的工作负荷大大提升。每天可应对40GB以上的超大容量,这样的工作负荷等同于写入150TB(TBW),确保了SSD具有更长的使用寿命;这也是三星850 PRO SSD产品能够在业内率先提供10年质保的最大技术保障。

除了在闪存方面的技术提升,三星850 PRO固态硬盘,在主控方面采用了三星全新研发生产的S4LN045X01-8030(MEX)主控制器,它属于ARM架构的三核处理器,具备更强悍的多任务、多路数据读写传输能力。主要提高在算法设计和CPU的频率。与之前的300MHz MDX三核主控相比,850PRO的MEX主控的频率提高到400MHz。

此次三星存储产品以及其它多款产品荣获”CES2015创新奖“可谓实至名归,三星电子北美总括李宗錫 (Gregory Lee)副社长表示:“三星电子致力于为世界各地消费者提供全新的使用体验,消费者在‘CES 2015’现场将会看到三星电子的最新成果。”

作为消费者,相信三星电子产品,一定会在提高消费者使用体验方面做出更大的创新,同时也期待三星存储能够为每一位消费者提供更加完善,更加便捷的产品体验。

[责任编辑:任新勃]
任新勃
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